Silicon oxynitride layers for applications in optical waveguides

Silisyum oksinitrat tabakalar, 1.55 fim optik dalgaboyunda çalışan dalga kılavuzlarının çekirdek kısmını oluşturması amaçlanarak, SİH4, N2O, ve NH3 gazları kullanılarak PECVD tekniği ile büyütüldü. Tabakalar 350 °Ode N20 ve NH3 gazlarının akış oranları değiştirilerek elde edildi. Büyütülen tabakaların kırılma indisleri 1.46 ile 2.00 arasında değiştirilebilmektedir. Büyütülen tabakalar FTIR ve ATR yöntemleri ile incelendi. 3500 cm-1 deki N-H salınımmın overtonunun 1.55 fim de soğurmaya neden olduğu bilindiğinden bu bant ayrıntılı incelendi. Isıl tavlamanın tabakaların yapı özelliklerine etkileri araştırıldı. FTIR ve ATR yöntemleri ile tavlama sonucu N-H salınımmın tamamen ortadan kaldırıldığı gösterildi. Silisyum oksinitrata dayalı düzlemsel dalga kılavuzları üretildi ve optik soğurum N-H bağ sayısıyla ilişkilendirildi. Ayrıca, SiON'a dayalı tek kipli dalga kılavuzları da üretilerek bunlardaki giriş kaybı ile optik kayıp ölçüldü. Sonuç olarak düşük kayıplı dalga kılavuzları üretildi. 111Anahtar sözcükler: PECVD, Silisyum oksinitrat, FTIR, ATR, Dalga kılavuzu, Optical kayıp, Tavlama, Tek kip şartı, Prisma çiftlemesi. iv