NİO, NiCr2O4 ve α-Fe2O3 ince filmlerinin büyütülmesi, karekterizasyonu ve NiO ince filmlerinin gaz sensörü özelliğinin incelenmesi

Bu çalışmada ilk olarak RF Magnetron Sputtering (RF Sıçratma) büyütme tekniği ile %2,4, %6,4 ve %9,8 gibi farklı oksijen kısmi basınçları uygulanarak cam ve silisyum üzerine NiO ince filmleri büyütülmüştür. Elde edilen NiO ince filmlerinin Optik Soğurma, XRD ölçümleri ile SEM ve AFM görüntüleri alındıktan sonra oksijenin, filmlerin yapısal, optik ve elektriksel özelliklerinde meydana getirdiği etki incelenmiştir. Daha sonra oda sıcaklığında Hall ve I-V ölçümleri alınan NiO ince filmlerinin farklı konsantrasyonlardaki hidrojen gazı ortamında gaz sensörü özellikleri incelenmiştir. Çalışmanın ikinci aşamasında, yine RF Sıçratma tekniği ile %5,56, %8,19 ve %12,83 oranlarında farklı oksijen kısmi basınçları uygulanarak cam ve silisyum üzerine üçlü bileşik Nikel-Krom Oksit (NiCr2O4) yarıiletken ince filmleri büyütülerek Optik Soğurma, XRD, oda sıcaklığında Van-der Pauw ölçümleri, Raman değişim grafikleri ile SEM ve AFM görüntüleri edilmiştir. Çalışmanın son aşamasında ise kimyasal püskürtme yöntemi ile hematit ( -Fe2O3) faza sahip ince filmler elde edilmiştir. Daha sonra kimyasal püskürtme yöntemi ile demir III oksit ( -Fe2O3) içerisine Al, Cd, Ga, gibi elementler katkılanıp, RF Magnetron Sputtering büyütme tekniği kullanılarak üzerine nikel oksit (NiO) ince filmler büyütülmüş, filmlerin optik soğurma, XRD, oda sıcaklığında Hall ölçümleri ile SEM ve AFM görüntüleri elde edilmiştir.