Mikrodalga kalkanlayıcı malzeme tasarım ve analizi

Bu tez çalışmasında, elektromanyetik spektrumun yoğun olarak kullanılan mikrodalga frekans bandında (8–12 GHz) elektromanyetik kalkanlama sağlayacak ultra ince metalik filmler araştırılmıştır. İnce film üretiminde önemli üstünlükleri bulunan sputter yöntemi kullanılarak, yaklaşık 80 nm ile 500 nm aralığında değişen farklı kalınlıklarda (80, 120, 170, 250, 300 ve 500 nm) saf Al, Co, Cr ve Ti ince filmleri büyütülmüştür. Büyütülen filmler, yapısal ve morfolojik özelliklerini belirlemek amacıyla XRD ve SEM analizleri ile karakterize edilmiştir. Daha sonra, üretilen filmlerin elektromanyetik kalkanlama performansları, vektör ağ analizörü ile dalga kılavuzu iletim hattı kullanılarak incelenmiş ve saçılma parametreleri üzerinden değerlendirilmiştir. Elde edilen sonuçlar, ultra ince metalik filmlerin seçilen nanometre ölçeğindeki kalınlıklarda hem yansıma hem de soğurma mekanizmalarıyla gelen mikrodalga sinyallerinin %90'ından fazlasını etkin bir şekilde engellediğini ortaya koymaktadır. Özellikle alüminyum ince filmler, hafifliği ve etkin kalkanlama performansı ile öne çıkmıştır. Bu çalışma, hacimsel tasarrufun önemli olduğu mini ölçekli elektronik cihazlar için yüksek performanslı kalkanlayıcı malzeme geliştirilmesine katkı sağlamaktadır.