Zirkonyum oksit yüzeylerin rezin simana bağlanabilme özelliklerinin plazma polimerizasyon yöntemi ile geliştirilmesi

Bu çalışmada zirkonya seramik yüzeylerde plazma polimerizasyon yöntemiyle oluşturulan organosilan içerikli ince filmin, rezin simanla bağlanma dayanımının incelenmesi amaçlanmaktadır.Çalışmamızda itriya stabilize zirkonya (Y-TZP) bloklardan yüksekliği 10 mm, genişliği 5mm, kalınlığı 1mm olacak şekilde 40 adet örnek kopyalama-freze yöntemiyle hazırlandı. Tüm örnek yüzeylerine eşit şartlarda polisaj işlemi uygulanarak 600 grit silikon karbit aşındırıcılarla bitirildi. Örnekler 5 gruba ayrılarak (n=8) yüzey şartlandırma işlemleri uygulandı. Gruplar şu şekilde oluşturulmuştur: Kontrol grubunda hiçbir yüzey şartlandırma işlemi uygulanmadı (KONTROL). Yüzeyler 50 ?m'lik Al2O3 kumu ile kumlandı (KUM), 30 ?m'lik silika kaplı Al2O3 kumu ile kumlandı ve silan uygulandı (ROC), Plazma polimerizasyonu uygulandı (PP), Plazma aşındırma uygulandı (PA).Örneklerin yüzey pürüzlülüğü ve oluşturulan ince film kalınlığı atomik kuvvet mikroskobu ile incelendi. Yüzeyi kaplanan örneklerin kimyasal analizi X-ışınları fotoelektron spektroskopisi ile yapıldı. Damlacık yöntemi ile temas açısı ölçümleri yapıldı.Tüm örnekler 10-metakriloksidesil-dihidrojen-fosfat içeren rezin simanla yapıştırıldı (Panavia F 2.0). Üniversal test cihazında 0.5 mm/dk crosshead hızında mikro kesme testi uygulandı. Oluşan kırık tipleri ışık mikroskobunda x10 büyütmede incelendi. Birden fazla bağımlı değişken bulunması nedeniyle yapılan çok değişkenli varyans analizinde (MANOVA) (F=26.488, df=16, p=.0.00) gruplar arasında oluşan farkların önemli olduğu görüldü. Ortalama mikrokesme bağlanma dayanımları arasında oluşan farkların belirlenmesi için tek yönlü varyans analizi (ANOVA) ve Post Hoc çoklu karşılaştırma testleri yapıldı.Çalışmanın sonuçlarına göre, KUM grubu (7.92±1.5MPa), ROC grubu (9.25±2.11MPa), PA grubu (8.13±1.57MPa) ve PP grubunda (8.71±2.08MPa) elde edilen bağlantı kuvvetlerinin kontrol grubundan anlamlı olarak daha yüksek olduğu gözlenmiştir (p<.05). En yüksek bağlantı değeri ROC grubunda elde edilmiştir. Postvhoc testi sonuçlarına göre KUM, PP, PA gruplarının bağlanma değerleri arasında istatistiksel olarak anlamlı bir fark oluşmamıştır (p>.05). Yüzey pürüzlülüğü açısından Kontrol ve PA grupları arasında oluşan farklar dışında tüm gruplar arasında oluşan farklar istatistiksel olarak anlamlı bulunmuştur (p<.05) En düşük yüzey pürüzlülüğü değeri PP grubunda (10.2±3.23 MPa) elde edilmiştir. X ışınları fotoelektron spektroskopisi analizinde, ince film yapısında Si varlığı tespit edilerek kimyasal bağlar oluşturduğu gözlenmiştir. Oluşturulan ince film tabakasının ortalama kalınlığı 96 nm olarak ölçülmüştür. Temas açısı ölçümleri değerlendirildiğinde tüm gruplar arasında oluşan farklar istatistiksel olarak anlamlı bulunmuştur. En hidrofilik yüzeyin PA grubunda oluştuğu görülmüştür. Kırılma tipleri ağırlıklı olarak (%83.3) adeziv tipte oluşmuştur.Anahtar kelimeler: Zirkonya, yüzey kaplama, mikrokesme testi, atomik kuvvet mikroskobu, X ışınları fotoelektron spektroskopisi