MOS yapıların dielektrik uygulamaları için vanadyum oksit ince filmlerin incelenmesi

Bu çalışmada V3O7 ve V8O15 ince filmler sol-jel daldırma yöntemiyle cam ve p-Si yarıiletken yüzeyler üzerine kaplanmış; AFM ile yüzey yapısı araştırılmış, XRD ile filmlerin polikristal yönelmeleri ve kristal yapıları incelenmiştir. EDX ile filim muhtevası araştırılmış. UV-VIS ölçümleri ile optik özellikleri araştırılmıştır. Elde edilen filmlerden Al/VOx /p-Si/Al MOS yapılar oluşturularak akım-gerilim, kapasite-gerilim-frekans yöntemleriyle elektriksel ve fiziksel özellikler incelenmiştir. İnce filmleri elde etmek için %99 saflıkta V2O5 tozu, HCl, HNO3, H2O2 çözücülerinin farklı birleşimleri içinde çözünerek homojen çözeltiler elde edilmiş ve kaplanacak olan cam veya p-Si yüzey bu çözelti içerisine 600 m/s hızla daldırılmıştır. Bu şekilde kaplanan yüzey öncelikle 300 derece 5 dakika tavlama işlemine tabi tutulmuş 10. kattan sonra 400 ile 500 derece arasında değişen sıcaklıkta 1 saat tavlamaya tabi tutulmuştur. MOS yapılar elde etmek için p-Si üzerine elde edilen filmlerin bir tarafı buharlaştırma yöntemiyle Al kaplanmış, diğer tarafı yine buharlaştırma yöntemiyle delikli maske kullanılarak Al kaplanmıştır.