Sİ3N4/TİALV ince film malzemelerinin yapısal elektriksel özellik ilişkisinin incelenmesi

Son zamanlarda Terahertz bandında görüntülemenin farklı avantajları olduğu görülmüştür ve güvenlik uygulamalarında kullanılmaya başlanmıştır. Ancak bu sistemler sınırlı hassasiyetleri ve maliyetlerinin yüksek olması nedeniyle halen çok yaygın bir kullanıma sahip değildirler. Kızılötesi bölgesinde yüksek soğurma kapasitesine sahip metal ince bir film Terahertz bölgesindeki yüksek yansıma katsayısı nedeniyle verimli kullanılamamaktadır. Metal/dielektrik ara yüzeydeki, özellikle ince metalik filmlerde oluşan plazmonik etkilerin potansiyelini tam olarak kullanabilmek için özgün malzeme sistemlerinin geliştirilmesi gerekmektedir. Bu tezde Terahertz bölgesinde çalışabilecek özgün olarak geliştirilecek metal/dielektrik etkin ortam ince film sistemleri ile soğurmaya karşı duyarlılığın arttırılması amaçlanmaktadır. Bu tezin amacı, TiAlV metal alaşım ince filmlerin kalınlığa bağlı yapısal, elektriksel ve terahertz optik özelliklerinin incelenmesidir. Bu kapsamda metal/dielektrik ara yüzeyindeki alaşım TiAlV ince filmlerin terahertz soğurma performansları tespit edilmiştir. Buna ek olarak, terahetz uygulamaları açısından kritik öneme sahip olacağı düşünülen ince film üretim parametrelerinin yapısal ve terahertz optik karakteristiklerine etkileri incelenmiştir TiAlV ince film alaşım sistemi farklı üretim parametreleri ile farklı kalınlıklarda DC magnetron sıçratma tekniği kullanılarak büyütülmüştür. Ortaya çıkan sonuçlar metalik TiAlV ince filmlerin THz uygulamalarında kullanımları hakkında önemli sonuçlar vermiştir.