Sülfat radikali oluşumuna dayalı ileri oksidasyon prosesleri ile organik bileşiklerin giderimi

Bu çalışmada, Reaktive Black 5 ve tetrasiklin organik bileşiklerinin sülfat radikali oluşumuna dayalı ileri oksidasyon prosesleri ile giderimi araştırılmıştır. Organik bileşiklerin gideriminde sülfat radikali oluşumuna dayalı ileri oksidasyon proseslerinden UV/peroksidisülfat, UV/peroksimonosülfat, ısı/peroksidisülfat ve ısı/peroksimonosülfat prosesleri uygulanmıştır. UV/oksidant sisteminde Reaktive Black 5 boyarmaddesinin giderimine pH, boyarmadde başlangıç derişimi ve oksidant miktarının etkileri incelenmiştir. UV/peroksidisülfat sisteminde giderim için uygun pH değerinin 5, UV/peroksimonosülfat için ise 3 olduğu belirlenmiştir. Reaktive Black 5'in derişimi arttıkça giderim azalırken oksidant miktarı arttıkça giderim artmıştır. UV/oksidant sisteminde tetrasiklin giderimine pH etkisi incelenmiş ve pKa değerlerine bağlı olarak tetrasiklinin negatif iyon halinde bulunması giderimi artırıcı yönde etki etmiştir. UV/oksidant sisteminde tersiyer-bütil alkol ve etil alkol kullanılarak yapılan deneysel çalışmalarda sülfat radikalinin etkin olduğu belirlenmiştir. Isı/oksidant sisteminde her iki bileşik için sıcaklık arttıkça giderimin arttığı gözlenmiştir. Anahtar Kelimeler: Sülfat radikali, Peroksimonosülfat, Peroksidisülfat, Aktivasyon, Oksidasyon