Farklı yönelimli safir alttaşlar üzerine sisli kimyasal buhar biriktirme yöntemiyle büyütülen ZnO filmlerin yapısal ve elektriksel özelliklerin incelenmesi

Bu çalışmada, ZnO ince filmler c-, r- ve m- yönelimli safir alttaşlar üzerine sis kimyasal buhar biriktirme (Mist-CVD) yöntemi ile büyütülmüştür. ZnO numuneler zenginleştirilmiş ozon gazı ortamında 350℃ sıcaklıkta 30 dakika boyunca büyütülmüştür. Tüm numunelerin x-ışını kırınımı (XRD), atomik kuvvet mikroskobisi (AFM) ve taramalı elektron mikroskobisi (SEM), Raman spektroskopisi ve oda sıcaklığında Hall etkisi ölçümleri yapılmıştır. XRD sonuçlarına göre büyüyen ZnO filmlerin hekzagonal fazda olduğu belirlenmiştir. Hem AFM hem de SEM görüntüleri ile yüzeyde sürekli ve homojen film olduğu belirlenmiştir. Raman spektroskopi ölçüm sonuçlarında hekzagonal ZnO'ya ait titreşim modları görülmüştür. Elde edilen sonuçlarla sis kimyasal buhar biriktirme yöntemi ile farklı yönelimli safir alttaşlar üzerine kaliteli ZnO ince filmlerin büyüdüğü görülmüştür.