Fotovoltaik hücrelerde kullanılan ZNO nanorodların üretilmesi ve bazı fiziksel özelliklerin incelenmesi

Günümüzde fotovoltaik (PV) olarak bilinmekte olan güneş enerjisi sistemlerine yoğun talep gösterilmektedir. PV sistemlerinde verimliliğin iyileşmesi, üretim maliyetinin düşürülmesi gibi alanlarda yapılmakta olan çalışmalar gün geçtikçe artmaktadır. İlerlemekte olan teknolojiyle birlikte modern cihazlarında gelişmesi ve yardımıyla PV sistemlerde kullanılmakta olan ince filmler üretilmekte ve bunların kristal yapıları, elektriksel özellikleri, optiksel özellikleri gibi alanlarda yapılan çalışmalar ve verimlilikleri artmaktadır. Bu çalışma kapsamında ZnO nanorodlar, ince film halinde üretilmekte olan filmlerin hibrit olarak ince film üretim teknikleriyle üretilmektedir. Üretim tekniği olarak kompleks ve pahalı teknoloji ile üretim tekniklerine alternatif olarak "Sol-gel manyetik döndürerek kaplama yöntemi" ve "Kimyasal banyo depolama tekniği" kullanılarak elde edilmiştir. Yapılan çalışama da ilk olarak sol-gel manyetik döndürerek kaplama yöntemiyle cam alttaş üzerine ZnO çekirdek tabakalar üretilmiştir. Hazırlanmış olan ZnO çekirdek tabaka üzerine kimyasal banyo depolama yöntemi kullanılarak ZnO ince film üretilmiştir. Hibrit üretim tekniği sonucu ZnO nanorod yapılar oluşturulmuştur. ZnO ince film ve nanorodların X-Işınımı Kırınımı (XRD), Taramalı Elektron Mikroskobu (SEM) ve UV-Vis Spektrofotometresi kullanılarak fiziksel özellikleri incelenmiştir. İncelemeler sonucunda XRD ve SEM analizlerinde nanorodların tek kristal yapı oluşturduğu ve yönelimlerin aynı yönde olduğu sonucuna varılmıştır. UV-Vis Spektrofotometresi ölçümleri ile yasak enerji aralığı 3,33 eV olduğu görülmüştür. ZnO nanorod hibrit üretim tekniği ile nanorod üretimi ekonomik ve basit bir şekilde üretilmiştir.