Filtreli vakum ark depolama sistemiyle üretilen ZnO-SnO2 ince filmlerin yapısal, optiksel ve elektriksel özelliklerinin incelenmesi

Araştırma konusunun amaçları ZnO-SnO2 ince filmleri FVAD sistemini kullanarak depolamak, ve depolama koşullarının etkileri ve depolama sonrası tavlama işleminin depolanan filmlerin özelliklerine etkisinin araştırılmasıydı. Kimyasal komposisyon, kristal yapı, yüzey morfolojisi, elektriksel özdirenç ve optik özellikler belirlendi. Ek olarak, depolanan ZnO-SnO2 ince filmlerin karakteristikleri aynı FVAD sistemini kullanarak üretilen ZnO, ve SnO2 ince filmler ile karşılaştırıdı. Depolanan filmlerin kimyasal ve ısısal kararlıklarıda aynı zamanda test edildi. ZnO-SnO2 ince filmler farklı Sn atomik konsantrasyonları içeren çinko katotlar kullanılarak UV fuse silica (UVFS) ve cam alttabanlar üzerine FVAD sistemiyle üretildi. Filmler farklı oksijen basınç, ark akım, ve alttaban sıcaklıkları kullanılarak depolandı. Oksijen basıncı 0.53 Pa -1.06 Pa aralığında alındı. Alttaban sıcaklığı oda sıcaklığı, 200 veya 400oC olarak ayarlandı. Vakum ark akımı 150-300 A ve depolama zamanı 60-240 s aralığındaydı. Ek olarak, depolanan filmlerin özelliklerinin hava veya argon atmosferinde iyileştiği depolama sonrası uygulanan tavlama ve testle belirlendi. Anahtar Kelimeler: Filtreli Vakum Ark, ZnO-SnO2, Optik Karakterizasyon, Özdireç, Kimyasal ve Termal Dayanıklılık.