Anilin ve anilin içerikli kopolimer ince filmlerin plazma yöntemiyle üretilmesi ve karakterizasyonları

Bu tez kapsamında çift deşarj plazma tekniği kullanılarak anilin ve anilin içerikli kopolimer ince filmler elde edildi. Kuartz camlar üzerinde ince filmler üretmek üzere kullanılan anilin monomerine oda sıcaklığında, herhangi bir çözücü ilave edilmeden, 1.5 kV DC voltaj, 19 kV darbeli voltajda ve 0,5 mbar basınç altında plazma polimerizasyonu uygulandı. Oluşturulan PANİ ince filmlere iyod katkılanarak elektriksel iletkenlikleri arttırıldı. Kopolimer ince filmler, anilin+tiyofen (AN+TH) ve anilin+pirol (AN+PY) monomerleri kullanarak oluşturuldu.Üretilen ince filmlerin yapısal özellikleri hakkında bilgi edinmek için FTIR, optiksel özelliklerini belirlemek için UV-Vis, elemental bileşimi için XPS spektroskopilerinden, yüzey geometrisi ve morfolojisi için SEM elektron mikroskobundan yararlanıldı.Çift deşarj plazma tekniği kullanılarak elde edilen ince filmler diğer polimerizasyon yöntemleriyle oluşturulan ince filmlerden kimyasal yapısı açısından farklılıklar gösterdi. Plazma polimerizasyonu ile anilin monomerinin parçalanması sonucu, oluşan ince filmlerde, anilin yapısı ve alifatik yapıların da (CH2 ve CH3) oluştuğu FTIR spektroskopisi analiz sonuçlarından görüldü. PANİ ince filmlerin enerji band boşlukları 3.5 - 3.8 eV arasında değerler alırken, bu ince filmlerin iyod ile katkılanması sonucu bu değerler 2.7 - 2.2 eV arasında elde edildi. Anilin içerikli kopolimer ince filmlerin herhangi bir katkılama olmadan hesaplanan enerji band boşlukları 3.1 ile 2.1 eV arasındadır. Bu durum oluşturulan kopolimer ve iyod katkılı PANİ ince filmlerin yarı-iletken özellik kazandığını göstermektedir. Ayrıca deney sisteminde üç farklı bölgeye yerleştirilen kuartz camlar üzerinde üretilen ince filmlerde bölgelere etki eden farklı plazma enerjisinin ve parçacık yoğunluğundan dolayı da farklılıklar meydana gelmiştir.Anahtar sözcükler: Plazma polimerizasyonu, Çift desarj plazma metodu, Polianilin ince filmler, Kopolimer