UPD (under-potential deposition) at stepped platınum single crystal surfaces

Bu çalışmada; (100) basamak yüzeyinde (Pt(19,1,1), Pt(11,1,1) ve Pt(511) gibi) Pt tek kristalinin Tl ve Pb UPD'sini ve Pt(19,1,1) yüzeyinde Ru'un CO oksidasyonu üzerinde etkisini araştırdık.Serbest CO çözeltisinde Ru birikimi sırasında siklik voltamogramda (CV) yüksek potansiyelde 2 pik gözlenmiştir. CO oksidasyonu ; Ru içermeyen çözeltide ve Ru içeren çözeltide çalışılmıştır.Bu kıyaslamanın sonucu olarak Ru etkisiyle Pt(19,1,1) yüzeyinde bütün piklerin daha düşük potansiyele doğru kaydığı gözlenmiştir. Pt(19,1,1) yüzeyindeki Ru içermeyen çözeltide CO oksidasyonu sırasında 0.75 V'ta görülen tek pik yerine ; Ru içeren çözeltide 0.58 ve 0.63 V'ta CO adsorpsiyonu gözlenmiştir. Ru içeren çözelti deneyinde; 0.54 V'ta 3 dakikalığına potansiyel akımını durdurduğumuzda 0.7 V'taki 2. pikin etkilenmediği gözlenmektedir.Tl/Pt(111) yüzeyindeki 0.76 V'taki keskin pik yapısından yapısına faz değiştirdiğini göstermektedir.Tl ve Pb arasında kıyaslama yapılmıştır ve sonuçlar Tl'un özellikle basamağı, Pb'nin ise özellikle terası modife ettiği saptanmıştır. Ayrıca Pb adsorpsiyonunda (100) yüzeyinin (111) yüzeyine göre daha kararlı olduğu saptanmıştır.