Farklı alt tabanlar kullanılarak hazırlanan Cu2O ince filmlerin fiziksel özelliklerinin araştırılması

Bu tez çalışmasının amacı, SILAR yöntemiyle, farklı sıcaklık (30 oC ve 70 oC) ve daldırma döngüsü sayılarında (10, 20 ve 40) cam (amorf) ve FTO (polikristal) alt tabanlar üzerinde Cu2O (kuprit) yarıiletken ince filmler üretmek ve bu parametrelerin filmin fiziksel özelliklerine etkisini araştırmaktır. Çalışmada, alt taban türü, daldırma döngü sayısı ve üretim sıcaklığının, elde edilen filmlerin yapısal, morfolojik ve optik özellikleri üzerindeki etkileri araştırılmıştır. X-ışını kırınımı (XRD) analizleri sonucunda hem cam hem de FTO alt tabanlar üzerinde büyütülen Cu2O ince filmlerin kübik fazda ve polikristal yapıda kristallendiği bulunmuştur. Üretilen yarıiletken filmlerin temel optik parametreleri geçirgenlik (%T), soğurma (A), yansıma (%R), kırılma indisi (n), sönüm katsayısı (k), reel ve imajiner dielektrik sabitleri (Ԑ1, Ԑ2) ile enerji bant aralığı (Eg) UV-vis spektrofotometresinden elde edilen veriler yardımıyla hesaplanmıştır. Cam alt tabanlar üzerinde, 30 oC'de elde edilen filmlerin Eg değerleri 1,98–2,39 eV arasında, 70 oC'de ise 1,88–2,45 eV arasında bulunmuştur. FTO alt tabanlar için bu değerler, 30 oC'de 2,19–2,47 eV ve 70 oC'de 2,20–2,42 eV aralığında bulunmuştur. Alan Emisyonlu Taramalı Elektron Mikroskobu (FE-SEM) görüntüleri, ince filmlerin genel olarak homojen bir morfolojiye sahip olduğunu; ayrıca yer yer çubuksu ve küresel yapılara rastlandığını göstermiştir. Daldırma döngü sayısının ve üretim sıcaklığının artışı ile birlikte, daha sıkı ve yoğun bir yapının oluştuğu gözlenmiştir.