Nikel-oksit yapıların büyütülmesi ve kapasitif davranışlarının incelenmesi

Bu çalışmada grafit alttabaka üzerine elektrodepozisyon yöntemiyle NiO ince filmler üretildi. Bu filmlerin hepsi farklı pH değerlerine sahip Ni(NO3)2 çözeltisi kullanılarak elde edildi. İstenilen pH değerleri NH3 çözeltisi ile ayarlandı ve filmler bu pH değerlerinde üretildi (4,1; 4,6; 5,1; 5,6 ve 6,3). Büyütme sonrası, filmler 1 saat, 2 saat ve 3 saat boyunca tavlandı ve kapasitif davranışları farklı pH değerlerinde, farklı kapasitif çözeltileri için incelendi (H2SO4, Na2SO4 ve KOH). Bu tavlama süreleri arasında, en yüksek spesifik kapasitans değeri (65 mF/cm2), 2 saat boyunca tavlanan filmde elde edildi. Bu farklı pH değerleri için en yüksek spesifik kapasitans değeri, 9,6 mF/ cm2 ile pH=4,6 değerinde bulundu. Bu farklı kapasitif çözeltileri içerisinde, en yüksek spesifik kapasitans değeri (65 mF/cm2) KOH çözeltisi için bulunmuştur. Filmlerin yapısal analizleri ise Fourier Dönüşümlü Kızılötesi (FTIR) Spektroskopisi ve X-Işınları Difraksiyonu (XRD) desenleri kullanılarak gerçekleştirildi. Morfolojik yapıların incelenmesi için Taramalı Elektron Mikroskobu (SEM) ve yüzey haritalama teknikleri kullanıldı. Filmlerin kimyasal analizleri ise Enerji Ayırmalı X-Işını Spektroskopisi (EDX) yöntemi ile belirlendi.