Hetero yapılı NiO/FTO-NiO/ITO-NiO/cam filmlerinin üretim ve karakterizasyonu

Bu tez çalışmasında, Sıralı İyon Adsorpsiyon ve Reaksiyon yöntemi (SILAR) ile farklı tabanlar kullanılarak nikel oksit (NiO) filmlerinin üretimi ve karakterizasyonu yapılmıştır. NiO filmlerinin üretiminde Glass, FTO, ITO olmak üzere üç farklı taban kullanılarak NiO-Glass, NiO-FTO, NiO-ITO filmleri elde edilmiştir. Üretilen filmlerin yapısal, optiksel, elektriksel ve yüzeysel özellikleri incelenmiştir. Ayrıca kullanılan tabanların NiO filmlerinin fiziksel özellikleri üzerine etkisi araştırılmıştır. X-ışını desenleri kullanılarak filmlerin kristalleşme seviyesi, tane boyutu, mikro gerilme, birim hücre sabitleri ve dislokasyon yoğunluğu gibi yapısal özellikleri belirlenmiştir. Tüm filmler kübik bir kristal yapıda ve (200) doğrultusunda tercihli bir yönelime sahiptir ve tane boyutları 30-60 nm arasında değişmektedir. Filmlerin optik analizleri sonucu, optik enerji aralığı değerlerinin 3,56 – 4 eV aralığında değiştiği tespit edilmiştir. Ayrıca ITO taban kullanımının geçirgenlik değerlerini (% 40) belirgin bir şekilde arttırdığı belirlenmiştir. Filmlerin elektriksel özellikleri akım-voltaj (I-V) karakterizasyonu yapılarak incelenmiştir. Tüm filmler omik elektriksel özelliğe sahiptir. Filmlerin ideal faktör (η) ve voltaj bariyeri (B) değerleri sırasıyla 1,44-3,44 ve 0,49-0,59 eV aralığında değiştirmiştir. Filmlerin yüzey morfolojileri incelenerek homojen bir dağılıma sahip olduğu ve taban seçiminin yüzeydeki tane boyutunu etkilediği tespit edilmiştir.