Silika destekli manyetik formda plazmonik katalizör tasarımı ve kesikli reaktör sisteminde katalitik aktivitenin tayini

Çalışmada tekil dağılımlı-gözenekli formda manyetik SiO2 mikroküreler yeni geliştirilen bir sol-jel kalıplama yöntemiyle sentezlenmiştir. SiO2 mikrokürelerin yüzeyinde kovalent immobilizasyon yoluyla primer amin grupları oluşturulmuştur. Takip eden basamakta Au nanopartiküller oluşturulan primer amin grupları kullanılarak SiO2 mikrokürelerin gözenekli yapısı içerisinde sabitlenmiştir. Manyetik formda ve Au nanopartikül içeren SiO2 mikroküreler mekanik kontrollu kesikli reaktörde fenolün Fenton-bazlı giderim mekanizması ile giderimi için kullanılmıştır. Kürelerin yüzey özellikleri ile boy dağılımları taramalı elektron mikroskobu ile özgül yüzey alanı ölçümleri de Brunauer-Emmett-Teller (BET) Yüzey Alanı ve Gözenek Boyutu Ölçüm Cihazı kullanılarak belirlenmiştir. Çalışmada giderim verimi, Yüksek Basınçlı Sıvı Kromotografisi cihazında ölçülmüştür. Au nanopartikül içeren manyetik SiO2 mikroküreler ile fenolün Fenton-bazlı giderim veriminin Au nanopartikül boyutu ile ilişkisi incelenmiştir. Fenol giderimi için en uygun pH değeri tayin edilmiştir. Ayrıca, katalizör derişimi, katalizörün Au nanopartikül içeriği, fenol ve hidrojen peroksit başlangıç derişiminin fenol giderim mekanizmasına etkisi incelenmiştir. Sentezlenen katalizörlerin tekrar kullanılabilirliği incelenmiş ve başarılı sonuçlar elde edilmiştir. Sonuçta, silika destekli manyetik formda plazmonik katalizör kullanılarak kesikli sistemde yüksek verimle Fenton-bazlı fenol gideriminin yapılabileceği gösterilmiştir.