Yüksek LisansAçık Erişim

Silindirik yüzeylerin taşlanmasında değişik helis açılı taşların yüzey pürüzlülüğüne ve daireselliğe etkisi

2011
0 görüntülenme
0 i̇ndirme
Danışman: Doç. Dr. Muammer Gavas

Özet (TR)

Taşlama işlemi, genellikle metal malzemelerin en son işlemlerinde gerekli yüzey kalitesini ve ölçüsünü elde etmek için yapılır. Taşlama işlemlerinde genellikle düz yüzeyli zımpara taşları kullanılmaktadır. Ancak bu yöntemde, zımpara taşı ve malzeme arasında çok fazla temas alanı (taş genişliği kadar) olduğundan soğutma istenen şekilde yapılamamakta, sıcaklık artmakta ve talaş zor boşalmaktadır. Bu sebeplere bağlı olarak kalitesiz yüzey ve yuvarlaklık hatası gibi istenmeyen ve beklenmeyen sonuçlar ortaya çıkmaktadır. Yüzey kalitesini artırmak ve yüzey pürüzlülüğünü düşürmek için çeşitli profillerde taşlar kullanılmış, yani zımpara taşı modifiye edilerek çeşitli yöntemler geliştirilmiştir. Bu çalışmada çevresine 15º, 30º ve 45º helisel kanallar açılmış taşlar kullanılarak Ç 1050, Ç 4140 ve Ç 7131 çelik malzemeler silindirik taşlama işlemine tabi tutulmuş elde edilen ?ortalama yüzey pürüzlüğü? ve ?yuvarlaklık hatası? sonuçları düz yüzeyli zımpara taşı ile kıyaslanmıştır. Deneyler neticesinde, helisel kanallı taş kullanımıyla daha iyi yüzey kalitesi ve daha düzgün dairesellik elde edildiği görülmüştür.

Yazar

Muammer Kına

Bu Yayına Nasıl Atıf Yapılır

Muammer Kına (Yüksek Lisans Tezi). Silindirik yüzeylerin taşlanmasında değişik helis açılı taşların yüzey pürüzlülüğüne ve daireselliğe etkisi, 2011, Kütahya Dumlupınar University.

Anahtar Kelimeler

Lisans

Tüm Hakları Saklıdır

Bu eser belirtilen lisans koşulları altında paylaşılmaktadır.

Kütahya Dumlupınar University tezlerinden daha fazlası