Vakum plazma uygulamasının titanyum dental implant yüzey özelliklerine etkisinin incelenmesi

Bu tez çalışmasının amacı, dental implantolojide yaygın olarak kullanılan titanyum implantların yüzey özelliklerini iyileştirmek üzere vakum plazma uygulamasının etkilerini detaylı biçimde incelemektir. Bu kapsamda, titanyum dental implant yüzeylerine uygulanan vakum plazma işleminin yüzey morfolojisi, kimyasal bileşimi, yüzey pürüzlülüğü ve ıslanabilirlik özellikleri üzerindeki etkileri araştırılmıştır. Çalışma kapsamında, dört farklı yüzey durumu (ham malzeme, kumlama, SLA yüzey işlemi ve vakum plazma uygulaması) karşılaştırmalı olarak değerlendirilmiştir. Yüzey karakterizasyonu için taramalı elektron mikroskobu (SEM), enerji saçılım spektroskopisi (EDS), atomik kuvvet mikroskobu (AFM), X-ışını fotoelektron spektroskopisi (XPS) ve temas açısı ölçüm teknikleri kullanılmıştır. Yapılan analizlerde, vakum plazma işlemine tabi tutulmuş yüzeylerde artan oksijen ve azot içeriğine bağlı olarak yüzey enerjisinin yükseldiği, bunun da ıslanabilirliğin belirgin şekilde arttığını göstermiştir. Temas açısı değeri plazma işleminden sonra 16,31°'ye kadar düşmüş, bu da yüzeyin hidrofilik karakter kazandığını ortaya koymuştur. Ayrıca, AFM ile ölçülen yüzey pürüzlülüğü (Rq) değeri 832,68 nm olarak belirlenmiş olup, bu durum hücresel adezyon açısından olumlu kabul edilmektedir. Elde edilen mekanik test verileri ise implantın klinik uygulamalar için gerekli biyomekanik dayanımı sağladığını göstermiştir. Sonuç olarak, vakum plazma işleminin dental implant yüzey özelliklerini iyileştirmede etkili bir yöntem olduğu ortaya konmuş ve osseointegrasyon sürecini destekleyici bir yüzey modifikasyon tekniği olarak değerlendirilebileceği sonucuna varılmıştır. Anahtar Kelimeler: Dental implant, Titanyum, Vakum plazma, Yüzey modifikasyonu, Osseointegrasyon, Hidrofiliklik, Pürüzlülük