Elektrodepolama yöntemiyle metal yarı iletken sistemlerin özellikleri

Bu çalışmada, (100) doğrultusunda büyütülmüş, 150 nm kalınlıklı ve 10-20 ?m öz dirençli ve n tipi Silisyum kullanarak, elektrodepolama yöntemiyle oluşturduğumuz Cr/n-Si Shottky diyotların elektriksel özellikleri inceledi. Bu diyotların elektriksel karakteristikleri, akım-voltaj (I-V) ve kapasitans-voltaj (C-2-V) ölçümlerinin yardımıyla belirlendi.Elektrodepolama yöntemiyle oluşturduğumuz Cr/n-Si diyotun bariyer yükseklikleri ve idealite faktörleri sıcaklığa bağlı olarak incelenip lineer ilişki yardımıyla belirlendi. TE teoremine göre; idealite faktörünün sıcaklık azaldıkça arttığını, bariyer yüksekliğinin ise sıcaklık arttıkça arttığı gösterildi.Schottky bariyer yüksekliğinin oluşum teorisinde, Schottky bariyer yüksekliğinin özdeşliği ve homojenliği önemli bir konudur ve Schottky bariyer diyot ve kontakların oluşumunda önemli bir daldır. Böylece yarı-iletken madde iyi karakterize edilip homojen Schottky bariyer yüksekliği, tek bir kontağın I-V karakteristiğinden de elde edilebilinir. Bu amaçla, yaklaşık 1.25x1015 cm-3 katkı yoğunluklu Cr/n-tipi Si SBDlar hazırlandı ve BHlı lineer bölge kullanıldı. Cr/n-tipi Si yapılarının elektriksel karakteristikleri sıcaklığa bağlı olarak 80 ile 320 0K arasında 20 0K arttırarak incelendi.Anahtar kelimeler: Silisyum, Schottky bariyer diyot, Elektodepolama yöntemi