Investigation of photocatalytic activities of metal oxide ALD thin films

Fotokatalizörler TiO2 ve ZnO ince filmleri, atomik katman biriktirme ile cam kumaş üzerine biriktirildi. İnce filmlerin sonradan tavlanması 450 ° C ve 600 ° C'de iki saat süreyle yapıldı. TiO2 ve ZnO'nun fotokatalitik aktiviteleri, güneş simülatörü ve UV lambası altında metilen mavisi bozunma verimi kullanılarak incelenmiştir. İnce filmlerin morfolojisi FESEM ve AFM tarafından araştırıldı. ALD ince filmlerin element analizi ve kristal yapısı sırasıyla XPS ve XRD ile araştırıldı. İnce filmlerin optik özellikleri UV-Vis spektrofotometre ile incelendi. 450 °C tavlı TiO2 ince film, anataz forma dönüşen ve düşük bant aralıklı enerji ile hem "biriktirildiği halde" hem de tavlanmış TiO2 ALD ince filmlerde en yüksek fotokatalitik aktiviteyi göstermiştir. "Biriktirildiği gibi" ZnO ALD ince filmler, iyi kristalleştirilmiş altıgen wurtzit yapısı, oksijen boşluğu (Vo) ve düşük bant aralığı enerjisine sahip olmaları nedeniyle, hem TiO2 hem de ZnO ALD ince filmler en yüksek fotokatalitik aktiviteler göstermiştir.