Yüksek LisansAçık Erişim

MIS yapıların frekans ve radyasyona bağlı temel elektriksel parametreleri

2006
0 görüntülenme
0 i̇ndirme
Danışman: Doç. Dr. Şemsettin Altındal

Özet (TR)

Bu çalışmada, Al/SiO2/p-Si (MIS) yapıların bazı temel elektrikselparametreleri frekans ve radyasyona bağlı incelendi. Al/SiO2/p-Si yapınınkapasitans-voltaj (C-V) ve iletkenlik-voltaj (G/ω-V) ölçümleri farklıfrekanslar için oda sıcaklığında gerçekleştirildi. Bu ölçümlerden yapınınseri direnç, arayüzey durumları gibi bazı temel elektriksel parametreleri60frekansa bağlı hesaplandı. Daha sonra yapı Co gama ışını kaynağındafarklı dozlarda radyasyona tabi tutularak benzer ölçüm ve hesaplamalartekrarlandı. Yapılan deneysel ölçümler ve hesaplamalar, bu yapılarınhemen hemen tüm temel elektiksel parametrelerinin yapıdaki arayüzeydurum yoğunluğuna, seri dirence, uygulanan d.c. gerilimine, frekansa veradyasyon dozuna bağlı olarak önemli ölçüde değiştiği gözlenmiştir.Bilim Kodu : 202. 1. 147Anahtar Kelimeler : MIS yapı, frekansa bağlılık, radyasyon etkisi, seri direnç,arayüzey durumlarSayfa Adedi : 54Tez Yöneticisi : Doç. Dr. Şemsettin ALTINDAL

Yazar

Dr. Banu Tataroğlu

Bu Yayına Nasıl Atıf Yapılır

Banu Tataroğlu (Yüksek Lisans Tezi). MIS yapıların frekans ve radyasyona bağlı temel elektriksel parametreleri, 2006, Gazi University.

Anahtar Kelimeler

Lisans

Tüm Hakları Saklıdır

Bu eser belirtilen lisans koşulları altında paylaşılmaktadır.

Gazi University tezlerinden daha fazlası