DoktoraAçık Erişim

Pfcvad sistemi ile üretilen n ve p tipi zno ince filmlerin fotoiletkenlik özelliklerinin karşılaştırılması

Bu tez size mi ait?

Bu kayıt toplu arşivden geldi. Sizinse profilinize bağlayın.

2013
0 görüntülenme
0 i̇ndirme

Özet (TR)

Bu çalışmada, n ve p tipi ZnO ince filmler, Atmalı Filtreli Katodik Vakum Ark Depolama (PFCVAD) yöntemi ile cam alt tabanlar üzerine oda sıcaklığında elde edilmiştir. Azot Katkılı ve katkısız ZnO (N:ZnO ve ZnO) ince filmler üç seri ince film şeklinde incelemiştir. Birinci seride ısısal oksidasyon ile n ve p tipi ZnO ince filmler elde edilip karakterizasyonu yapılırken ikinci ve üçüncü seri ince filmler daha yüksek oksijen ve azot gaz akış oranlarında üretilerek karakterizasyonu üzerinde durulmuştur. Elde edilen yarıiletken ince filmlerin optiksel, yapısal, elektriksel, yüzey ve fotoiletkenlik özellikleri belirlenmiş ve tartışılmıştır.

Yazar

Kamuran Kara

Bu Yayına Nasıl Atıf Yapılır

Kamuran Kara (Doktora Tezi). Pfcvad sistemi ile üretilen n ve p tipi zno ince filmlerin fotoiletkenlik özelliklerinin karşılaştırılması, 2013, Çukurova University.

Anahtar Kelimeler

Lisans

Tüm Hakları Saklıdır

Bu eser belirtilen lisans koşulları altında paylaşılmaktadır.

Çukurova University tezlerinden daha fazlası