NiO/n-Si heteroeklemin sıcaklığa bağlı elektriksel karaktarizasyonu

Bu çalışmada, NiO/n-Si heteroeklemin elde edilmesi ve sıcaklığa bağlı elektriksel özelliklerinin belirlenmesi amaçlanmıştır. Bu amaçla, n-Si yarıiletken ve cam üzerine NiO ince filmleri radio frekansı (RF) reaktif saçtırma yöntemi ile biriktirilmiştir. Yüksek saflıkta Ni hedef olarak ve oksijen reaktif gaz olarak kullanılmıştır. Au metali doğrultucu kontak olarak buharlaştırılmıştır. Au/NiO/n-Si heteroeklemin sıcaklığa bağlı elektriksel parametreleri 305 ile 480 K arasında alınan akım-gerilim ölçümleri ile belirlenmiştir. İdealite faktörü, engel yüksekliği ve seri direnç gibi elektriksel parametrelerin sıcaklığa kuvvetlice bağlı olduğu görülmüştür. Ayrıca, cam üzerindeki ince filmin optik özellikleri uv-vis verileri ile analiz edilmiştir.