TaN ince filmlerde kalıntı gerilme ve tercihli yönelim analizi

Bu çalışmada radyo frekansı (RF) reaktif magnetron saçtırma tekniğiyle farklı film üretim parametrelerinde biriktirilen tantalum nitrür (TaN) ince filmlerde biriken kalıntı gerilmelerin film üretim koşullarına göre değişimi, içerdikleri kalıntı gerilme türleri ve üretilen ince filmlerin sahip oldukları kristaloğrafik yönelimlerinin dağılımını veren tercihli yönelim (texture) özellikleri hakkında bilgi edinmek amacıyla, X-ışınları kırınımı (XRD) θ-2θ taraması, X-ışınları kalıntı gerilme analizi (XRSA), X-Işınları pole figure ölçümü, Grazing Incidince X-ray Scattering (GIWAXS) teknikleri kullanıldı. X-Işınları kalıntı gerilme analizi sonucunda üretilen ince filmlerin üretim koşullarına bağlı olarak 9 GPa ile 0.2 GPa değerleri arasında değişen büyüklükte kompresif gerilme içerdikleri tespit edildi. Üretilen ince filmlerin bir kısmının düzlemsel olmayan tercihli yönelim durumlarına sahip oldukları gözlendi.