Atmalı katodik vakum ark depolama sistemiyle üretilen ZnO'nun elektriksel iletkenliği ve ısıl işlemle değişimi

ÖZYÜKSEK L SANS TEZATMALI KATOD K VAKUM ARK DEPOLAMA S STEM YLEÜRET LEN ZnO'NUN ELEKTR KSEL LETKENL Ğ VE ISILŞLEMLE DEĞ Ş MMediha SOYLUÇUKUROVA ÜN VERS TESFEN B L MLER ENST TÜSÜF Z K ANAB L M DALIDanışman : Yrd. Doç. Dr. Şadi YILMAZYıl : 2006, Sayfa:115Jüri : Yrd. Doç. Dr. Şadi YILMAZProf. Dr. Ramazan ESENDoç.Dr. Bilgehan GÜZELYarıiletken ZnO ince filmler elektriksel iletkenliği ve optik geçirgenliğiyüksek malzeme olmalarından dolayı teknolojik açıdan pek çok yerde kullanılırlar.Bu sebepten malzemenin üretimi ve teknik açıdan kullanılırlığının ölçümü önemkazanmaktadır.Bu tez çalışmasında yarıiletken ZnO ince filmlerin elektriksel iletimi ve ısılişlemle değişimi incelenmiştir. PFCVAD depolama yöntemiyle cam ve silikonalttaban üzerine farklı O2 basıncı kullanarak farklı basınçlarda depolanan incefilmlerle, farklı kalınlıklarda depolanan filmlerin sıcaklıkla elektriksel iletkenliği,soğurma katsayısı, yasak enerji aralığı gibi yarıiletken parametrelerinin kıyaslanmasıve ölçümü yapılmıştır.Anahtar Kelimeler: ZnO, Atmalı Filtreli Katodik Vakum Ark Depolama(PFCVAD) yöntemi, elektriksel iletkenlik, ısıl değişim.