Grafen oksit film üzerinde SH-SY5Yhücrelerine hipoksinin etkilerinin araştırılması

Merkezi sinir sistemi (MSS)'nde nöronlar oksijene oldukça duyarlıdır. Oksijen azaldığında, nöronlar dejenere olur. Nöronlarda dejenerasyon, hasar ve ölüme neden olur. Hipoksi felç, kafa travması, neoplazi, vasküler malformasyonlar ve nörodejeneratif hastalıklar gibi MSS patolojileriyle ilişkilidir. Grafen şu ana kadar çalışılmış en dikkat çekici nano yapılı malzemelerdendir. Daha önceki bir çalışmamızda L-glutaminle oluşturulan stresin nöronlar üzerindeki etkisini grafen oksit (GO) ve cam yüzeyler üzerine B35 hücrelerini ekerek incelemiştik. Özgün elektriksel özellikleri nedeniyle GO'nun MSS dejenerasyonlarında nöral hücre davranışını düzenlemede kullanılabilecek potansiyel bir malzeme olabileceğini düşündük. Bu çalışmada, hipoksi stresinin SH-SY5Y hücreleri üzerine etkilerini GO yüzeylerde göstermek amacıyla GO tozu ve kitosanla cam yüzeyler üzerinde ince bir film tabakası elde edildi. Kültüre edilen SH-SY5Y hücre hattı GO filmler üzerine ekildi, sadece cam yüzeylere ekilen hücreler ise kontrol grubu olarak kullanıldı. Nöronal farklılaşma için 10 µM retinoik asit kullanıldı. Hücreler hipoksik (3% O2) ortamda hipoksi haznesinde ve normoksik (21% O2) ortamda normal inkübatörde beş gün süreyle inkübe edildi. Hücre canlılığı için MTT testi yapıldı. Hücre morfolojileri taramalı elektron mikroskopisi (SEM) ve aktin boyama ile incelendi. MTT sonuçlarına göre hücreler GO filmler üzerinde hipoksi stresine karşı daha fazla direnç gösterdi. Aktin boyama ve SEM görüntülerinin de bu sonucu desteklediği gözlendi. Bu çalışmanın sonuçları GO'nun hipoksi stresine karşı potansiyel bir tedavi yöntemi olarak kullanılabileceğini göstermektedir.