Sılar yöntemiyle Cu-Sn katkılı ZnO filmlerin yapısal, morfolojik ve optik özelliklerinin incelenmesi

ZnO yarıiletkeni yüksek geçirgenliği ve doğada bol bulunması gibi nedenlerle teknolojik uygulamalarda yaygın olarak kullanılmaktadır. ZnO nanokristaline uygun katkılamalar yapılarak yapısal, optiksel ve elektriksel özellikleri iyileştirilebilmesi nedeniyle diğer oksit malzemelere alternatif olarak kullanılmaktadır. Katkılı ve katkısız ZnO ince filmler farklı yöntemlerle büyütülebilmektedir. Bu çalışmada SILAR yöntemiyle kullanılarak FTO/ZnO, FTO/ZnO/Sn-Cu %1, FTO/ZnO/Sn-Cu %2 ve FTO/ZnO/Sn-Cu %3, katkılı filmler elde edilmiştir. Elde edilen ZnO ince filmlerinin yapısal özellikleri katkı konsantrasyonu bağlı değişimi incelenmiştir. Üretilen ince filmlerin yapısal ve morfolojik özellikleri X-ışını Kırınım Cihazı (XRD), Taramalı Elektron Mikroskopu (SEM) ve UV spektroskopisi (UV-VIS) yöntemleriyle incelendi. XRD analizlerinden, üretilen ince filmlerin Cu ve Sn konsantrasyon oranı değiştikçe amorf yapıdan polikristal yapısına değiştiği belirlendi. SEM görüntülerinden katkı konsantrasyonuna bağlı olarak üretilerin filmlerin morfolojik özelliklerinde değiştiği gözlendi. Üretilen ince filmlerin yasak bant aralıkları UV-VIS spektrometresi ile belirlenmiş olup elde edilen sonuçların literatürle uyumlu olmakla birlikte, katkılama oranı arttıkça yasak enerji aralıklarında değiştiği gözlendi.