Yüksek LisansAçık Erişim

PFCVAD (atmalı filtreli katodik vakum ark depolama) sistemiyle ZnO:Al bileşiklerinin üretilmesi ve karekterizasyonu

2011
0 görüntülenme
0 i̇ndirme
Danışman: Yrd. Doç. Dr. Şadi Yılmaz

Özet (TR)

Bu çalışmada Atmalı Filtreli Katodik Vakum Ark Depolama (PFCVAD) yöntemi ile alüminyum katkılı çinko oksit ince filmler (ZnO:Al) oda sıcaklığında cam alttaban üzerine üretildi. Elde edilen filmlerin optiksel ve elektriksel özelliklerinin sıcaklık ve basınç değişiminden nasıl etkilendiği araştırıldı.

Yazar

Deniz Kadir Takcı

Bu Yayına Nasıl Atıf Yapılır

Deniz Kadir Takcı (Yüksek Lisans Tezi). PFCVAD (atmalı filtreli katodik vakum ark depolama) sistemiyle ZnO:Al bileşiklerinin üretilmesi ve karekterizasyonu, 2011, Çukurova University.

Anahtar Kelimeler

Lisans

Tüm Hakları Saklıdır

Bu eser belirtilen lisans koşulları altında paylaşılmaktadır.

Çukurova University tezlerinden daha fazlası