Farklı estetik restoratif materyallerde yüzey pürüzlülüğünün streptokok mutans adezyonuna etkisinin değerlendirilmesi

Amaç: Bu çalışmanın amacı, klinikte rutin olarak kullandığımız diş rengindeki restoratif materyallerine farklı bitirme ve polisaj disk sistemleri uygulandıktan sonra göstermiş olduğu yüzey pürüzlülük değerlerini ve materyal yüzeyine adezyon gösteren streptokok mutans sayısını belirleyip, yüzey pürüzlülüğü ile S.mutans adezyonu arasındaki ilişkisinin değerlendirilmesidir. Gereç ve Yöntem: Çalışmada kullandığımız dört farklı kompozit rezinlerle (nanofil esaslı 3M Filtek™ Ultimate Universal Restorative, mikrohibrit esaslı 3M Filtek™ Z250, nanohibrit esaslı Tokuyama Estelite Asteria ve nanoseramik esaslı Dentsply Ceram.x Duo) iki farklı rezinle modifiye cam iyonomer siman (3M Photac Fil Quick Aplicap, GC Fuji 2 LC Capsule) materyallerinin her birinden 21 adet olacak şekilde toplam 126 adet örnek 8mm çapında 2mm kalınlıkta disk şekilde hazırlandı. Kontrol grubu olarak kullanılan polistren materyalinden ise 7 adet örnek SEPAR Plastik AŞ.'den hazır olarak alındı. Her test materyalinden hazırlanan 21 adet örnek 7'şerli üç gruba ayrılarak her bir gruba farklı bitirme ve polisaj disk seti (3M Sof-Lex, Kerr Optidisk, Shofu SuperSnap) üretici firmaların talimatları uyarınca uygulandı. Yüzey pürüzlülükleri ölçülen örneklerin üzerlerinde bakteri adezyonunu kolaylaştırmak için müsin içeren yapay tükürükte 1 saat bekletilerek materyal yüzeyinde pelikıl oluşumu sağlandı. Pelikıl oluşumundan sonra örneklere S.mutans içeren solüsyonlar eklendi ve 35-37°C'de 24 saat inkübasyona bırakıldı. 24 saatin sonunda restoratif örneklere adezyon gösteren S.mutanslar sayıldı. Bulgular: Yüzey pürüzlülük değerleri bakımından materyaller arasında istatistiksel olarak anlamlı bir fark tespit edilirken (p<0.05), bitim ve polisaj disk setleri arasındaki farklılık anlamlı bulunmamıştır (p>0.05). Tüm bitirme ve polisaj disk setlerinde en fazla yüzey pürüzlülüğü gösteren materyal; RMCİS olan 3M Photac Fil Quick Aplicap'ken, en az yüzey pürüzlülüğünü; nanohibrid esaslı Tokuyama Estelite Asteria kompozit rezini göstermiştir. Bakteri adezyonu bakımından materyaller arasında istatistiksel olarak anlamlı bir fark bulunurken (p<0.05), bitirme ve polisaj disk setleri arasında anlamlı bir fark yoktur (p>0.05). Tüm bitirme ve polisaj disk setlerinde en fazla S.mutans adezyonuna maruz kalan materyal; nanoseramik esaslı Dentsply Ceram.x Duo oldurken, en az bakteri tutulumu sergileyen restoratif materyal ise; Tokuyama Estelite Asteria kompozit rezin olmuştur. Sonuç: Bu çalışmanın bulgularına göre, kullandığımız üç farklı bitirme ve polisaj sistemi arasında hem yüzey pürüzlülüğüne hem de S.mutans adezyonuna etki açısından istatistiksel olarak anlamlı bir fark bulunmamıştır (p>0,05). Materyallerin yüzey pürüzlülüğü ile S.mutans adezyonu arasında %26.2 oranında düşük güçte pozitif yönlü bir korelasyon tespit edilmiştir (p<0.05). Anahtar Kelimeler: Kompozit rezin, rezinle modifiye cam iyonomer siman, yüzey pürüzlülüğü, S.mutans adezyonu